口腔颌面外科

《口腔颌面外科》（JournalofOralandMaxillofacialSurgery)创刊于1991年，由国家新闻出版署批准，是我国口腔颌面外科界第一本专业性学术期刊。由教育部主管，同济大学主办。国内外公开发行。国内统一连续出版物号：CN31-1671，国际标准连续出版物号：ISSN1005-4979。双月刊。荣获上海市优秀科技期刊；中国学术期刊综合评价数据库来源期刊；国家科技部中国科技论文统计源期刊；第二届上海市优秀科技期刊评比中荣获三等奖。

《口腔颌面外科》主要刊登口腔颌面外科及相关学科基础与临床研究的新成果、新技术，以及临床经验等论文。设有专家论坛、基础研究、临床研究、口腔种植学研究、临床总结、口腔医学教育、综述、病例报告等栏目。内容丰富、信息量大、读者面广，深受口腔医学院师生、口腔颌面外科和相关学科的医务人员及科技工作者的欢迎。

《口腔颌面外科》已被中国学术期刊综合评价数据库﹑中国核心期刊（遴选）数据库﹑中国期刊全文数据库﹑中文科技期刊数据库、美国《化学文摘》(CA)、美国《乌利希期刊指南》等收录。

1《口腔颌面外科》文题应简明、准确、有专指性。一般不超过20字，不另加副标题，不得使用非公知公用的缩略词。

2《口腔颌面外科》作者署名作者排名应在投稿时确定，一般不超过6名。单位列出全称（包括科室），并注明所在省市（县）及邮编，全体作者来自2个以上单位的，分别在相应作者的右上角标注序号。外籍作者姓名、单位用原文字书写，且姓名全部列出。中国作者人名拼写用汉语拼音，姓前名后，姓全大写，名第一个字母大写余小写，双名间加连字符，如“王雪梅”拼写为“WANGXue-mei”。

3《口腔颌面外科》摘要文字简洁、明了，中文不超过300字，英文不超过400个实词。摘要应包括以下4部分。目的：简要说明研究目的及提出问题的缘由；方法：简要说明研究课题的基本设计路线，使用的材料和方法，如何分组对照，经何种统计学方法处理；结果：简要列出研究的主要结果和数据，并给出显著性检验的确切值；结论：简要说明经验、论证取得的正确观点及其理论价值或应用价值。务必使用第三人称。首次出现的缩略语须附中英文全称。

4关键词一般取3～8个，应从文题、摘要中选取与本文研究中心问题有关的词，尽量从《医学主题词表》（MeSH）中选择。

5正文包括4方面内容，即引言、材料（资料）和方法、结果、讨论。临床总结及病例报道一般可分2个部分，即临床资料、讨论。

（1）引言阐述研究目的、依据，国内外现状等，一般不超过250字。

（2）材料（资料）和方法说明观察或实验对象（患者或动物，包括对照者）的选择方法和标准。所使用的材料（尤其试用的新材料），需注明厂家、生产许可证或编号等。详细描述实验仪器和方法。对他人建立的尚未被人们熟悉的方法应提供参考文献；自己建立的实验方法或对原实验方法有实质性改进者应详细描述。说明采用的统计学方法。

（3）结果按顺序用文字、表和（或）图叙述，列出该研究结果，并列出本研究获得的主要数据及给出显著性检验的确切值。不要在正文中重复表、图中已有的数据资料，只需强调研究发现的主要结果。

（4）讨论对结果进行分析和解释，着重讨论研究中新的、重要的发现及由此得出的结论。

6参考文献列出作者亲自阅读的文献，以近5年国内外文献为主。内部资料、二次文献、未公开发表的资料均不能作为参考文献引用。一般综述引用文献不超过20篇，研究类文章引用文献不超过10篇。按GB7714－2005要求，文献作者1～3人全部著录，3人以上只录前3人，后加“等”或“etal”（英文）、“他”（日文）。采用姓在前、名在后的著录法。外国人姓全写（首字母大写），名用缩写（仅用首字母），缩写名后不加“.”。参考文献按文献在正文中出现的先后顺序，用带方括号的阿拉伯数字（[1]、[2]…）依次排列于文末，并在正文相应部位的右上角标注角码。文献类型以单字母方式标识：期刊[J]、专著[M]、学位论文[D]、论文集[C]、专刊[P]、标准[S]。外文期刊名注意使用公认简写形式（参阅美国国立医学图书馆《IndexMedicus》中的刊名缩写形式），不必写出全称。

• Nature Reviews Immunology

  SCIE、SCI

• Ebiomedicine

  SCIE

• Cognitive Psychology

  SCIE、SSCI

• Oncotargets And Therapy

  SCIE

• Magnetic Resonance In Medical Sciences

  SCIE

• Journal Of Innate Immunity

  SCI、SCIE

• Clinical And Experimental Nephrology

  SCIE

• Journal Of Neuro-oncology

  SCI、SCIE